Híbrido de 90º de banda ultra-ancha, basado en tecnología sub-longitud de onda, compatible con fabricación litográfica en la plataforma fotónica de silicio

A. Hadij-ElHouati, R. Halir, A. Ortega-Moñux, J. G. Wangüemert-Pérez, H. Podmore, J. H. Schmid, P. Cheben, Í. Molina-Fernández
September 2020
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XXXV Simposio Nacional de la Unión Científica Internacional de Radio (URSI), 9, Málaga, Spain

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